vakuumda puxtalash texnologiyasi

DOCX 4 стр. 60,8 КБ Бесплатная загрузка

4 стр.

FaylHub.uz

Скачать через Telegram

Размер 60,8 КБ

Тип файла DOCX

Страницы 4

Обновлено Дек 2025

Предварительный просмотр (4 стр.)

Прокрутите вниз 👇

1 / 4

4 – laboratoriyа ishi vakuumda puxtalash tеxnologiyasi ishdan maqsad: vakuum qurilmasi ishlash prinsipi bilan tanishish va unda qoplama qoplash usuli bilan tanishish. ish bo‘yicha kеrakli jihozlar va anjomlar: vakuum qurilmasi, argon gazi, purkash materiali. xavfsizlik tеxnikasi: ishni bajarish mobaynida umumiy tеxnika xavfsizligi qoidalariga amal qilish talab etiladi nazariy ma’lumotlar ion-plazma buzadigan amallar materiallari (va shunga mos ravishda buzadigan amallar) keng elektron qurilmalar ishlab chiqarishda ishlatiladi. plazma maqsadni bombardimon qiladigan ionlar manbai sifatida ishlatiladi. bir qator elektrofizik uskunalarda materiallarni qayta ishlash 0,5 dan 10 kvgacha bo‘lgan kuchlanish va bir necha ampergacha bo‘lgan oqimdagi vakuum kamerasida yonib turgan nurli oqim plazmasi yordamida amalga oshiriladi. purkash materiallar (maqsad) salbiy salohiyat ostida bo‘lishi muhim, bu esa sirtni ionlar bilan bombardimon qilish imkonini beradi. inert gazlar (ko‘pincha argon) ishlaydigan gazlar sifatida ishlatiladi. ion bilan ishlov berish yaxshi sifat ko‘rsatkichlariga ega, ammo barcha gaz tushirish tizimlariga xos xususiyatlarga ega. ko‘pchilik gazni to‘kish purkash tizimlari 1-10 pa …

2 / 4

rt gazi (ko‘proq argon) kiritiladi. tizimda katod va anod kuchlanishiga issiqlik kuchlanishi qo‘llanilganda oqim paydo bo‘ladi. (tizim radiolamp sifatida ishlaydi). elektronlar gazni ionlashtiradi va gaz ionlarini ishlab chiqaradi. maqsad 2 uchun kuchlanish qo‘llanilganda, ionlar maqsadni bombardimon qilib, undan materialni chqaradi. materiallar 3 substratiga purkaladi. substrat ustida plenka gaz miqdorini kamaytirish uchun kichik salohiyati (200 b) oziqlanadi. 10 kv gacha bo'lgan tezlashuv kuchlanishlari bilan nm/mindagi v tezligi quyidagi formula bo‘yicha hisoblanadi: v=(6,23·1025· j·k·mi )/(n·), bu yerda: j- tok zichligi (а/m2), n-avogadro soni n=6·1023, - material zichligi kg/m3. tizimning muhim ko'rsatkichi uning gaz tejamkorligi hisoblanadi, chunki tizim elementlaridan chiqarilgan barcha gaz va gaz vakuum nasoslari bilan pompalanishi kerak. h" gaz iqtisodiyoti n + ionlarining n gaz atomlarining umumiy soniga nisbati. h=n+/n oddiy sharoitlarda gaz atomlarining soni 2,6·1019 1/см3 ni tashkil qiladi. ion-plazma bilan purkash paytida ionlanish koeffitsiyenti 10% ga yetishi mumkin. tadqiqot qismi tajribalar odatdagi vakuumli urm tipidagi qurilmalarda olib boriladi. tarkibiy …

3 / 4

ng. 4. nishonning temirdan urish tezligini hisoblang. 5. kameradagi gaz miqdorini kamaytirish uchun ion-plazma purkash sxemasini bering. 6. anodda 150 v kuchlanishda, 3/2 darajadagi qonunga asoslanib, katod va anod orasidagi bo'shliqning oqim-kuchlanish xarakteristikasini hisoblang. 7. ionlarni purkash mexanizmlarining rasmlarini bering. 8. 1 a zaryadsizlanish oqimida va gaz oqimi tezligi 10-4 torr / s ga teng bo‘lgan gaz samaradorligini (%) hisoblang. 9. gaz bosimining 1 uchun mo‘ljallangan kuchlanishiga nisbatan maqsadli tokning bir nechta yuqori sifatli tok kuchlanish xarakteristikalarini bering; 0,1; 0,01 pa. 10. tajribada ishlatilganlardan tashqari gaz ionlanishining mumkin bo'lgan usullarini ko‘rsating. image1.png image2.jpeg image3.wmf oleobject1.bin oleobject2.bin r

4 / 4

vakuumda puxtalash texnologiyasi - Page 4

Хотите читать дальше?

Скачайте все 4 страниц бесплатно через Telegram.

Скачать полный файл

О "vakuumda puxtalash texnologiyasi"

4 – laboratoriyа ishi vakuumda puxtalash tеxnologiyasi ishdan maqsad: vakuum qurilmasi ishlash prinsipi bilan tanishish va unda qoplama qoplash usuli bilan tanishish. ish bo‘yicha kеrakli jihozlar va anjomlar: vakuum qurilmasi, argon gazi, purkash materiali. xavfsizlik tеxnikasi: ishni bajarish mobaynida umumiy tеxnika xavfsizligi qoidalariga amal qilish talab etiladi nazariy ma’lumotlar ion-plazma buzadigan amallar materiallari (va shunga mos ravishda buzadigan amallar) keng elektron qurilmalar ishlab chiqarishda ishlatiladi. plazma maqsadni bombardimon qiladigan ionlar manbai sifatida ishlatiladi. bir qator elektrofizik uskunalarda materiallarni qayta ishlash 0,5 dan 10 kvgacha bo‘lgan kuchlanish va bir necha ampergacha bo‘lgan oqimdagi vakuum kamerasida yonib turgan nurli oqim plazmasi ...

Этот файл содержит 4 стр. в формате DOCX (60,8 КБ). Чтобы скачать "vakuumda puxtalash texnologiyasi", нажмите кнопку Telegram слева.

Теги: vakuumda puxtalash texnologiyasi DOCX 4 стр. Бесплатная загрузка Telegram